等離子清洗機中頻、射頻、微波電源的區別！

等離子清洗機常見電源的頻率有3種，40KHz，13.56MHz，2.45GHz，也就是平時大家據說的中頻、射頻、微波。3種頻率的電源各有其優勢，各有各的頻率，今天我給大家普及一些關于等離子清洗機電源關于頻率方面的知識

40KHz的電源就是大家平時所稱的中頻電源，簡單的來說就是能量高，但是等離子的密度較低。中頻電源在真空等離子清洗上被選用的基本上是真空腔體體積較大（一般大于100L，電極板數量較多，因為相對于射頻中頻在大功率電源比如5000W、10KW、20KW本身性能更穩定、對于產生的等離子體中分子、離子獲得的動能更大、滲透性更好、偏重利用物理反應

此外由于中頻電源直接輸出到電極板的電壓較高，其自偏壓較高，產生的負自偏壓引起了正離子的功率吸收，這也會直接引起電極板的溫度升高；同時由于在這過程中，離子會吸收部分的功率，因此用于電離的電子的功率吸收就與相應的減少了，從而造成等離子體密度的較低和離子的能量較高，工藝處理溫度也會稍高。

射頻電源的功率都比較低，在真空等離子清洗機上被選用的基本上是真空腔體體積較小的設備，相對于中頻來說因為它頻率高、雖然分子、離子獲得的動能沒有中頻的高，但是能量的密度高，就處理效率來講還是明顯優于中頻而且其物理反應和化學反應都表現很好

射頻等離子清洗機在射頻客性耦合方式的放電過程中，電極板產生的自偏壓受到放電氣壓的影響，自偏壓較小，電子的功率吸收主要來自于與電極板表面的振蕩鞘層相互作用。因此，射頻等離子清洗設備的激發頻率越高電子的功率吸收也會相對越高，相應的離子轟擊的能量就會降低。

而說到微波等離子清洗機放電，這種清洗沒有自偏壓，離子濃度高，離子能量低，主要有兩種方式，即表面波型和電子回旋共振型，前者一般用于商業清洗，是通過輻射微波電磁場直接將氣體擊穿實現放電，其中并沒有離子的加速作用，其電子密度較高，但通常要求放電氣壓高，從而會引起等離子體局域化比較嚴重的情況，不利于縱深清洗和多層面的大尺度的清洗處理，此外，微波等離子清洗機也不適合對一些精密的電子元器件進行處理。現在微波式的等離子目前真空腔體的體積做不大，技術還不夠成熟一般只能做到幾升的容積，用于試驗室內）